產(chǎn)品介紹

介紹

Zell Shield?是一種即用型高濃度新型復(fù)合抗生素，無(wú)細(xì)胞毒性，通過(guò)阻止原核生物DNA及蛋白的合成，有效地祛除細(xì)胞培養(yǎng)中遇到的支原體、細(xì)菌、霉菌和酵母污染。Zell Shield?可常規(guī)添加到培養(yǎng)基中，保護(hù)細(xì)胞免受支原體的污染。

特點(diǎn)

1. 高效廣譜
祛除支原體效果明顯，同時(shí)，對(duì)細(xì)胞內(nèi)外的革蘭氏陰性菌、革蘭氏陽(yáng)性菌、病原蟲、霉菌和酵母等污染亦可有效預(yù)防。

2. 無(wú)細(xì)胞毒性
Zell Shield?對(duì)大多數(shù)細(xì)胞株都不會(huì)產(chǎn)生細(xì)胞毒性。

3. 抗支原體活性穩(wěn)定
在細(xì)胞培養(yǎng)期內(nèi)，Zell Shield?始終保持穩(wěn)定的活性。

4. 操作簡(jiǎn)便

即用型，直接加入到培養(yǎng)基中。

使用方法

該產(chǎn)品為無(wú)菌溶液，100倍濃縮。1瓶（50mL）Zell Shield^?足夠供5L培養(yǎng)基使用（500ml培養(yǎng)基添加5ml Zell Shield^?，再混勻）。

Zell Shield^?可直接添加到任何動(dòng)物細(xì)胞培養(yǎng)基中，37℃孵育7天后需更換，以達(dá)到最大的防護(hù)效果。

支原體污染祛除方法

據(jù)研究表明，約98％的支原體存在于細(xì)胞表面和細(xì)胞間隙。支原體直徑約180~350nm，比細(xì)胞小很多，經(jīng)低速離心與細(xì)胞分離。通過(guò)反復(fù)懸浮沖洗、離心，加上使用Zell Shield?，即可在細(xì)胞培養(yǎng)四代以內(nèi)有效地祛除支原體。

1.首先把被支原體污染的細(xì)胞消化下來(lái)，放入離心管離心，棄上清。再加入干凈的PBS懸浮沖洗細(xì)胞、低速離心（300~500r/min）、棄上清，反復(fù)三次。這樣可祛除細(xì)胞表面60％~70％的支原體，支原體還剩約30％~40％。

2.細(xì)胞加入含1％Zell Shield?的新鮮培養(yǎng)基，傳代培養(yǎng)。這時(shí)因培養(yǎng)基中Zell Shield?的抑制作用，細(xì)胞培養(yǎng)過(guò)程中，雖然細(xì)胞增殖，但殘留的支原體無(wú)法增殖。細(xì)胞需再次傳代時(shí)，把第二代細(xì)胞消化下來(lái)，離心，棄上清。加入新鮮PBS懸浮沖洗、再離心、棄上清，反復(fù)三次。這時(shí)，細(xì)胞上殘留的支原體大約已剩余為最初污染量的10％左右。

3.細(xì)胞加入含1％Zell Shield?的新鮮培養(yǎng)基，傳代培養(yǎng)。需再次傳代時(shí)，把第三代細(xì)胞消化下來(lái)，離心，棄上清。加入新鮮PBS懸浮沖洗、再離心、棄上清，反復(fù)三次，可再次祛除60％~70％的殘余支原體。通過(guò)沖洗、抑制、換液等操作，細(xì)胞中支原體的殘留污染量大約只剩3％左右。

4.細(xì)胞加入含1％Zell Shield?的新鮮培養(yǎng)基，傳代培養(yǎng)。需再次傳代時(shí)把第四代細(xì)胞消化下來(lái)，離心，棄上清。加入新鮮PBS懸浮沖洗、再離心、棄上清，反復(fù)三次，可再次祛除60％~70％的支原體。此時(shí)，支原體殘留量大約已低于1％。

支原體的增殖亦有密度要求，用Zell Shield?處理過(guò)四代的細(xì)胞，即便撤掉Zell Shield?，只要保證沒有新的支原體人為再次帶入，原有支原體也無(wú)法再增殖。隨著傳代，換液，支原體的老化、死亡，細(xì)胞中的支原體污染基本就徹底解決了。

要點(diǎn)歸納：

1.每次傳代時(shí)，重復(fù)三次對(duì)細(xì)胞懸浮沖洗步驟非常重要，操作要正確、規(guī)范，以達(dá)最佳效果！

2.在培養(yǎng)基中加入1％Zell Shield?，抑制支原體增殖！

3.使用安全的血清、培養(yǎng)基等試劑，不再有新的支原體加入！

做到以上三點(diǎn)即可確保祛除支原體污染。